Polski niebieski laser stał się symbolem polskiej innowacyjności, jej szans i wyzwań. Wbrew często powtarzanym opiniom o klęsce tego projektu konkretne argumenty pokazują, że rozwój rodzimej technologii niebieskiego lasera uznać należy za sukces. „Porażka polskiego niebieskiego lasera czy grafenu w spektakularny sposób ilustruje problemy z praktycznym wykorzystaniem dorobku (polskiej) nauki” – stwierdzili profesorowie Dariusz Jemielniak i Andrzej Rychard w artykule o Uniwersytecie PAN (POLITYKA 23), a podobne opinie powtarzane są jako oczywistość. Przyjrzyjmy się faktom.
Podstawy technologii polskiego niebieskiego lasera zostały opracowane za stosunkowo niewielką sumę 12,5 mln zł w latach 1999–2003. Motywacją do zajęcia się tą tematyką było posiadanie unikatowej w skali światowej wysokociśnieniowej technologii wytwarzania podłoży GaN (azotku galu) o minimalnej gęstości defektów. Podłoża takie są konieczne w technologii laserowej i stanowią jeden z jej ważnych elementów. (...) Byliśmy drugim, po Firmie OSRAM, ośrodkiem w Europie, który odnotował taki sukces. Polska technologia opierała się w całości na lokalnych rozwiązaniach i własnych patentach. Dodatkowo, nakłady na badania można oszacować na około 2–3 proc. nakładów lidera – japońskiej firmy Nichia.
Zakończenie pierwszej fazy badawczej nie spowodowało odłożenia na półkę wyników. Przeciwnie, Instytut Wysokich Ciśnień PAN wraz z prywatnym inwestorem powołał firmę wysokich technologii TopGaN. Poszerza ona, dzięki konsekwentnemu wsparciu finansowemu inwestora, swoją ofertę handlową. Obecnie TopGaN wraz z IWC PAN stara się rozwijać produkty dla zastosowań w obszarze ultrazaawansowanych technologii, takich jak zegary atomowe, sensory substancji chemicznych i wiele innych.